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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-109
分類 合成、熱処理、ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
設備名 赤外線ランプ加熱装置
(RTP System)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー名:アドバンス理工

型番:RTP-6

用途:多目的熱処理プロセス装置

仕様加熱方式:赤外線ランプによる上部片面加熱

加熱温度:1200℃以下

昇温速度:10℃/秒以下

加熱雰囲気:Ar, N2, Ar+H2(3%)

試料サイズ:最大φ6インチ

その他:タッチパネル操作系

F-NM-109

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