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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-110
分類 形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
設備名 顕微式自動膜厚測定システム
(Thin-Film Mapping System)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー名:フィルメトリクス株式会社

型番:F54-XY-200-UV

用途:反射分光膜厚測定

装置仕様

光源:重水素ハロゲンランプ

波長:190-1100nm

スポット径:10 um以下

測定膜厚範囲:5nm以下~30um

試料サイズ:最大φ8インチ

その他:自動マッピング、顕微式

F-NM-110

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