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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-111
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
膜加工・エッチング > アッシング・キュア
設備名 水蒸気プラズマ洗浄装置
(Water Vapor Plasma Cleaner)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー名:サムコ株式会社

型番:AQ-500

用途:洗浄・還元・灰化・接合・親水化

装置仕様

高周波出力50-250W

反応ガスH2O, O2

試料サイズ最大φ8インチ

測定膜厚範囲:5nm以下~30um

試料サイズ:最大φ8インチ

その他:自動運転プログラム

F-NM-111

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