文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-114
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 高解像度レーザーリソグラフィ装置
(High-resolution laser lithography system)
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー名:ハイデルベルグ・インストルメンツ

型番:DWL66+

 

用途:サブミクロン以上の任意パターン形成、3次元パターン造形

 

装置仕様

光源:375nm 半導体レーザー (70mW)
描画モード:ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
解像モード:0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
最大試料サイズ:8インチ角
その他:グレースケール描画、重ね合わせ描画

F-NM-114

この設備に関連する成果事例

この設備に関連する成果事例はありません。

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)