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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NM-099
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 多元スパッタ装置 (i-miller)
(Sputter-depo.System(i-miller))
地域 関東
設置機関 物質・材料研究機構
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

メーカー名:芝浦メカトロニクス
型番:CFS-4EP-LL (i-miller)
用途:金属・絶縁薄膜形成 

装置仕様
スパッタ方式:DC/RFマグネトロンスパッタ,反応性/2元同時/逆スパッタ/バイアススパッタ可能
電源出力:最大500W
カソード:φ3インチ×4式
プロセスガス:Ar,O2,N2
試料サイズ:最大φ8インチ(水冷ステージ)
現有ターゲット:Ti, Au, Al, Si, Cu, W, Ta, Ag, Ni, Cr, ITO, ZnO, SiO2(2020年4月時点)

F-NM-099

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