文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-223
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
表面処理 > プラズマ
設備名 ラジカル注入型プラズマCVD装置
(Radical Injection Plasma CVD)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ラジカル注入によるラジカル制御プラズマCVDであり,種々のカーボン材料の薄膜堆積が可能。

プロセスガス:CH4,C2F6,CF4,H2,Ar,O2,N2

F-NU-223

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)