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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-NU-225
分類 成膜・膜堆積 > 原子層堆積(ALD)
設備名 原子層体積装置
(Atomic Layer Deposition System)
地域 中部
設置機関 名古屋大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

サムコ製 AD-100LE

Al2O3, SiO2, AlOxNy, SiOxNy成膜用

基板サイズ:最大212mmΦ

加熱温度:最大500℃

ガス導入系:有機金属系2系統,H2O,O2,N2

F-NU-225

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