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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-RO-382
分類 合成、熱処理、ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
設備名 連続発振レーザアニール装置 (レーザ結晶化装置)
(CW OSC Laser annealing (Laser crystallization))
地域 中国
設置機関 広島大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

(自作)   【技術代行専用】
レーザ出力:0.24 ~ 10.0 W、
レーザ径:1.15 mm×50μm (ラインビーム)、
スキャン速度:0.1 ~ 10 cm/s

F-RO-382 F-RO-382

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