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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-RO-383
分類 合成、熱処理、ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
設備名 Rapid Thermal Anneal装置(RTA)
(Rapid Thermal Annealing furnaces)
地域 中国
設置機関 広島大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

サムコ製 HT-1000
昇温速度最大200℃/s(N2, O2, Ar)
対応wafer:2inch、cut wafer

F-RO-383

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