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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-118
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
合成、熱処理、ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
設備名 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
(High-temp. sputtering and O2 annealing)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ユーテック 21-0604、金属用(DC)スパッタチャンバ、酸化物用(RF)スパッタチャンバ、酸素加圧アニールチャンバの3つのチャンバで構成。最高基板温度は700℃、主に、PZT下地成膜、PZT成膜用。最大8インチ

F-TU-118

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