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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-120
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
膜加工・エッチング > ウエット/ガスエッチング,洗浄
設備名 Vapor HFエッチング装置
(Vapor HF etching)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Primaxx uEtch Module TO-α、気相のフッ酸を用いて、SiO2膜をエッチングする装置。例えばSOIウェハの埋め込み酸化膜のエッチングが可能で、壊れやすいシリコン構造体のリリースエッチングに適している。最大8インチ

F-TU-120

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