文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-146
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 レーザー直接描画装置
(Laser Drawing System)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Heidelberg DWL66+ 波長406nm 小片アライメントオプション、両面アライメント機能付き。

1024階調の「グレイスケールリソグラフィー」により,フォトレジストの立体形状段差をある程度自由に作れます。
また、GenISys社の変換ソフトウェア「BEAMER」を使うと、形状を得るために、近接効果の影響を計算して露光補正をしてくれます。

F-UT-146

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