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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-155
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 汎用NLDエッチング装置 
(Neutral Loop Discharge (NLD) plasm dry etching system)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

NLD-5700Si ガラスの深掘りが可能なニュートラルループディスチャージ(NLD)エッチング装置。当面は技術補助のみ。

F-UT-155

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