文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-363
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 マスクレス露光装置
(Maskless Lithography System)
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 岸村
仕様

ネオアーク製  DDB-701-DL
露光用光源:360nmLED
DMD解像度:1280×800
露光エリア:25mm×25mm
最小描画線幅:3µm(10倍レンズ)、15µm(2倍レンズ)
対物レンズ2倍を選択することにより厚膜のレジスト露光も可能。

F-YA-363

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