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ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。

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文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ！　研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名	ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID	S-CT-033
分類	形状・形態観察、分析＞膜厚・段差・粗さ測定表面分析装置＞その他表面分析分光＞紫外可視近赤外分光分光＞薄膜用紫外〜赤外反射物性測定＞粘弾性測定その他材料評価＞膜厚測定装置(エリプソメーター) バルク分析装置＞電気・磁気特性測定
設備名	表面物性測定装置群 (Surface analyzers)
地域	北海道
設置機関	千歳科学技術大学
研究分野	分子・物質合成
担当部署または担当者
仕様	1. 非接触光学式薄膜計測システム Scientific Computing International 社製 Film Tek4000 膜厚測定範囲： 3nm～200μm 測定波長範囲： 190～1700nm 2．分光エリプソメーター日本分光社製 M-150 計測波長範囲： 250～850nm 3. 顕微分光システム Photon Design社製 PDP-353 測定可能波長範囲： 250～1000nm 4. 接触角計協和界面科学社製 DM-501 液滴自動認識 5. その他

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。