S-CT-039:クロスセクションポリシャ | ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内 / NanotechJapan YellowPages

ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。

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研究設備詳細情報

事業名	ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID	S-CT-039
分類	試料作製装置＞試料作製装置群
設備名	クロスセクションポリシャ (Cross section polisher)
地域	北海道
設置機関	千歳科学技術大学
研究分野	分子・物質合成
担当部署または担当者	山﨑　郁乃
仕様	本装置はブロードなAr⁺イオンビームと遮蔽(しゃへい)板を用いて試料の断面を加工する新しい発想の断面試料作製装置です。これまで経験を必要とした他の手法に比べ、個人差が無く質の良い断面を短時間で得る事ができます。イオン加速電圧：2~6 kV イオンビーム径：500 μm ミリングスピード：100 μm/h 最大搭載試料サイズ：11 mm(幅)×10 mm(長さ)×2 mm(厚さ) 使用ガス：アルゴンガス

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