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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-CT-006
分類 ものづくり・合成支援 > 薄膜作製支援
成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
ものづくり・合成支援 > ナノ材料・カーボン材料作製支援
成膜・膜堆積 > スパッタリング
表面処理 > プラズマ
設備名 薄膜形成支援装置群
(Thin film deposition apparatus)
地域 北海道
設置機関 千歳科学技術大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者
仕様

1. 真空蒸着器
  ALS社製 E-100
  蒸発源: 8源 (同時蒸着2源)

2. 真空蒸着器
  アルバック社製 VPC-260
  蒸発源: 2源
  到達圧力 6.5 x 10-4 Pa

3. 真空蒸着器
  アネルバ製 L-043E-TN蒸発源: 3源
  到達圧力 5  x 10-5 Pa

4. スパッタ装置
  アルバック社製 MUE-ECO-C2
  スパッタカソード: 2インチマグネトロン式 x2
  基板加熱: 最高300 °C

5. 自己組織化構造作成装置
  ユーエスアイ・システム社製 ESD-23改
  移動速度:0.1~99.9 mm/min

6. 液晶配向膜ラビング装置
  日本文化精工社製(自作)
  真空吸着テーブルサイズ(50 x 50 mm)
  ラビングローラー回転速度可変<1,000 rpm
  テーブル移動速度調節可

7. リアクティブエッチング装置
  サムコ社製 RIE-10NR

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