文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-OS-135
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 反応性イオンエッチング装置
(Reactive Ion Etching System)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 北島 彰
仕様

サムコ株式会社
RIE-10NR

【特徴】
高精度エッチングが可能な平行平板型の反応性イオンエッチング装置です。
各種Si系基板や、金属膜、酸化物薄膜のエッチングが可能です。
【仕様】
試料ステージサイズ:20cm
プロセスガス:Ar,O2,CF4
タッチパネル操作、全自動運転も可能

S-OS-135

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