文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-OS-136
分類 ものづくり・合成支援 > 薄膜作製支援
成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 RFスパッタ装置
(Radio Frequency Sputtering System)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 和辻 祐規子
仕様

サンユー電子株式会社
SVC-700LRF

【特徴】
デポダウン方式のRFマグネトロンスパッタ装置です。
ターゲット交換が容易で、金属、酸化物、窒化物など様々な薄膜が成膜できます。
ターゲットは3元までセット可能です。
【仕様】
試料サイズ:50mmφ
プロセスガス:Ar,O2,N2
基板加熱温度:300℃
ターゲット基板間距離:50mm
【対応ターゲット】
 <純元素>
銀(Ag)、アルミニウム(Al)、金(Au)、コバルト(Co)、クロム(Cr)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、プラチナ(Pt)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、タングステン(W)
 <合金>
超耐熱性Ag合金(APC-TR)
ニッケル-鉄合金(81:19at%)(Ni-Fe)
 <酸化物>
アルミナ(Al2O3
酸化ハフニウム(HfO2
酸化インジウムスズ(90:10wt%)(ITO、In2O3-SnO2
S-OS-136

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