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大分類リソグラフィ・露光・描画装置  → 大分類一覧を表示
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2件中、1件目~2件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
コンタクトマスクアライナー〔MJB4〕 産業技術総合研究所 微細加工 MJB4型インチサイズ不定形各種基板5種類の露光モードを持ち、サブミクロン域までの露光や高精度なアライメント露光が可能な、コンタクト方式高性...
反転露光用全面UV照射装置 産業技術総合研究所 微細加工 露光源 : ウシオ電機マルチライト 超高圧水銀ランプ 主波長 : 365nm(i線) 照度 : 約32mW/cm2 露光モード : コンタク...