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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
リソグラフィ装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 16.ステッパ【Ultratech:1500MVS】紫外線によるパターン転写露光:投影式ステップリピート対応試料:2“Φ対応レチクル:5インチ□線幅:0.8μm~...