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3件中、1件目~3件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置 京都大学 微細加工 ズース・マイロテック社製 MA/BA Gen3 SPEC-KU 基板サイズ 1" to 200mm  最大厚み5mm アライメント精度 ±0.25μm(表面...
ナノインプリントシステム 京都大学 微細加工 Obducat社製  Eitre3基板サイズ Φ3(最大)インプリント方式 STU/熱/UV、全面一括 最高到達温度(熱インプリント時) 250℃...
ナノインプリント装置 京都大学 微細加工 マルニ社製 TP-32937    4インチウェハ    出力  10kN  1000kg     テーブル寸法  ...