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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
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3件中、1件目~3件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
スパッタ成膜装置(芝浦) 産業技術総合研究所 微細加工 芝浦メカトロニクス製CFS-4EP-LL型  ロードロック付RFマグネトロン・サイドスパッタ方式   スパッタ源:3台セット(内1台は強磁性材...
RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) 産業技術総合研究所 微細加工 この装置は、スパッタリング現象を利用して、薄膜を作製するためのものです。マグネトロンカソードを4インチ3式、3インチ1式装備しています。構...
RF・DCスパッタ堆積装置(芝浦) 産業技術総合研究所 微細加工 直流または高周波励起によりArプラズマを発生させ、ターゲット材へ衝突させることにより、基板へ均質緻密な膜をスパッタします。カソードは3つ...