文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます.

研究分野から探す

プラットフォームから探す

研究機関から探す

関連リンク

このサイトについて

検索条件

大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
中分類スパッタリング  → 中分類一覧を表示
事業
地域
研究機関広島大学
キーワード

検索結果一覧

3件中、1件目~3件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
スパッタ装置(Al用) 広島大学 微細加工 エイコ-社製超高真空仕様,Al以外にTi, TiNのスパッタが可能 対応wafer:2inch、cut wafer...
スパッタ装置(汎用) 広島大学 微細加工 エイコー社製各種材料スパッタ用(3インチターゲット交換により広範な材料に対応)スパッタガス(Ar・O2・N2) 対応wafer:2inch、cut wafer...
スパッタ装置(Cu用) 広島大学 微細加工 エイコー社製スパッタレート500 nm/8 min 対応wafer:2inch...