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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 7.スパッタ装置【キャノンアネルバ:EB1100】Al系薄膜のスパッタリング(Ar)RF出力範囲:~800W昇温可能範囲:~300℃電極間距離:100~150mm対応試料:...