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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
中分類CVD(化学気相成長)、有機膜  → 中分類一覧を表示
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9件中、1件目~9件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
ゾルゲル自動成膜装置 東北大学 微細加工 テクノファイン  PZ-604、PZT等の成膜 最大4インチ...
LPCVD 東北大学 微細加工 国際電気/システムサービス SiN、低応力SiN(Siリッチ) SiON SiO2 Poly-Si ガス:SiH2Cl2、SiH4、NH3、N2O 4インチ×30枚/バッチ 6インチ×20枚/...
熱CVD 東北大学 微細加工 国際電気 エピ炉 Poly-Si、Epi-polySi(低応力、50μmほどの厚膜) ガス:SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、H2 最高温度:1100℃ H2雰囲気中でのアニール 4イ...
住友精密 PECVD装置 東北大学 微細加工 住友精密 MPX-CVD 低応力SiN、アモルファスSiの成膜 ガス:SiH4、NH3、N2O、Ar、C4F8、N2、O2 ステージ温度:最大350℃ 最大8インチ×1枚/バッチ ...
住友精密 TEOS PECVD装置 東北大学 微細加工 住友精密 MPX-CVD、TEOS SiO2、SiH4 ベース  SiO2、最高温度:350℃、低応力成膜、最大8インチ...
JPEL PECVD装置 東北大学 微細加工 日本生産技術研究所  VDS-5600 SiN、SiO2の成膜 ガス:SiH4、NH3、N2O、N2 ステージ温度:最大300℃ 4インチ×20枚/バッチ 6インチ×8枚/...
W-CVD装置 東北大学 微細加工 Applied Materials P-5000、タングステン成膜、4インチ...
MOCVD装置 東北大学 微細加工 ワコム研究所 Doctor-T、PZT成膜、最大8インチ...
SPPテクノロジーズ TEOS PECVD 東北大学 微細加工 SPPテクノロジーズ APX-Cetus、TEOS SiO2、SiN、基板サイズ 小片~8インチ、最高温度 350℃、低応力SiN成膜...