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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
中分類CVD(化学気相成長)、有機膜  → 中分類一覧を表示
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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) 産業技術総合研究所 微細加工 サムコ社製TEOS CVD装置。8インチまで対応。本装置は液体ソースを用いたプラズマ化学気相成長装置であり、テトラエトキシシラン(TEOS)を原料...
プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) 産業技術総合研究所 微細加工 本装置は液体ソースを用いたプラズマ化学気相成長装置であり、TEOSからSiO2を、 SN-2(液体有機ケイ素化合物)からSi3N4を成膜することができます。R...