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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
中分類CVD(化学気相成長)、有機膜  → 中分類一覧を表示
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研究機関東京工業大学
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4件中、1件目~4件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
プラズマCVD 装置 東京工業大学 微細加工 シリコン酸化膜  サムコPD-240 1 反応器:  SUS304製  内径  340mm 基板加熱機構:抵抗加熱方式  MAX 400℃ ...
有機金属気相成長装置 東京工業大学 微細加工 日本酸素製 HR-3246  InP用 ウェハトレイ:石英製2インチウェハトレイ III族材料:TEG,TMG,TMA,TMI,CBr4 V族材料:AsH3(100%),AsH3(1%),PH3(100%),Si2H...
プラズマCVD装置 東京工業大学 微細加工 シリコン窒化膜/アモルファスシリコンの成膜  住友精密工業  Multiplex-CVD  ...
プラズマCVD 装置 東京工業大学 微細加工 シリコン酸化膜 サムコPD-100ST...