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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
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2件中、1件目~2件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 4.プラズマCVD【samco:PD-220】Si系薄膜の堆積基板加熱:~350℃RF出力:~300W対応試料:2”Φ×7    3”Φ×44”Φ×...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 5.減圧CVD【samco:LPD-1200】ポリシリコン堆積昇温可能範囲:~1100℃対応試料:2”Φ×20    4”Φ×25...