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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
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4件中、1件目~4件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
表面X線回折計 量子科学技術研究開発機構 微細構造解析 設置場所:BL11XU(量子科学技術研究開発機構)光エネルギー:6-70keV特徴:分子線エピタキシー(MBE)チェンバーを搭載した表面構造解析用X線回折計...
8元MBE装置 名古屋大学 微細加工 蒸着源:4cc蒸着源4個、2cc蒸着源2個試料サイズ30 mm角高圧電源3台基板加熱:1000℃1kV Arイオンエッチング機構25 kV RHEED表面観察機能...
分子線エピタキシー装置 豊田工業大学 微細加工 エイコー社製・AlInGaAs, Si, Be-dopng, GaAs系...
パルスレーザーMBE装置(PLD) 大阪大学 分子・物質合成 誠南工業株式会社PLO-020R 【概要】成膜する原料となるターゲットにレーザー光を照射し、高温となったターゲットから原子や分子を蒸発させ、試料...