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大分類成膜・膜堆積  → 大分類一覧を表示
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11件中、1件目~11件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
原子層堆積装置〔FlexAL〕 産業技術総合研究所 微細加工 オックスフォードインストゥルメンツ社製FlexAL型 金属や半導体、誘電体材料のナノ薄膜の作製に用いる装置です。 モデル名はFlexAL です。 基...
原子層堆積装置〔AD-100LP〕 産業技術総合研究所 微細加工 放電形式に誘導結合(Inductively Coupled Plasma:ICP)方式を採用した原子層堆積装置です。本装置は、リモートプラズマもしくはダイレクトプラズマの選択が...
原子層堆積装置 北海道大学 微細加工 ピコサン社製:SUNALE-R    試料種類:SiO2、TiO2、Al2O3、Nb2O5、HfO、ZnO他    試料サイズ:最大6インチ  酸化剤としてオゾン...
ALD製膜装置 北海道大学 微細加工 Cambride NanoTech社製:Savannah 100    成膜材料:HfO2, Al2O3, ZrO2    試料サイズ:最大4インチ...
原子層堆積装置 東京工業大学 微細加工 Ultratech/CamnbridgeNanotech製 FijiF200 ロードロック機構付プラズマ式/サーマル式の両方のモードでの原子層堆積が可能。4プレカーサライン・4プラ...
多機能型原子層堆積装置 物質・材料研究機構 微細加工 メーカー名:サムコ 型番:AD-230LP 用途:多種ALD薄膜形成装置 仕様成膜方式:サーマルまたはプラズマALD 原料:TMA, TDMAT, BDEAS, 他 酸化剤:H2O, O3, O...
プラズマ支援原子層堆積装置 名古屋大学 微細加工 プラズマを用いて原子層での膜堆積を行う。また、製膜中の膜質をその場・in-situ FTIRで評価することが可能基板温度:20℃-600℃使用ガス:SiH4、Ar...
原子層体積装置 名古屋大学 微細加工 サムコ製 AD-100LE Al2O3, SiO2, AlOxNy, SiOxNy成膜用 基板サイズ:最大212mmΦ 加熱温度:最大500℃ ガス導入系:有機金属系2系統,H2O,O2,N2...
原子層堆積装置 豊田工業大学 微細加工 Ultratech/Cambridge Nano Tech、Fiji F200 熱、オゾンおよびプラズマ酸化方式が選択可能 Al2O3、SiO2、SiNおよびAlNの成膜が可能 小片から8インチφまでの成...
多元材料原子層堆積(ALD)装置 東北大学 微細加工 テクノファイン ALK-600、アルミナ等のALDが可能。アルミナ以外は、要原料。最大6インチ...
アトミックレイヤデポジション(ALD)装置 早稲田大学 微細加工 Picosun社製 SUNALER A-150 Al2O3膜を原子一層レベルで成膜可能     H2O及びO3使用可     基板サイズ小片~4イ...