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大分類合成、熱処理、ドーピング  → 大分類一覧を表示
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4件中、1件目~4件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
酸化拡散炉 東北大学 微細加工 東京エレクトロン XL-7 MEMS用/半導体用  計7チューブ ウェット酸化 ドライ酸化 P拡散 B拡散 アニール 最大6インチ×40枚/バッチ ...
シンター炉 東北大学 微細加工 ヤマト科学 DN63H、Alの熱処理...
ランプアニール装置 東北大学 微細加工 AG Associates AG4100 最⾼温度:1100℃ 昇温速度:100℃/sec 4インチ/6インチ対応カセットtoカセット ...
酸素加圧RTA付高温スパッタ装置 東北大学 微細加工 ユーテック 21-0604、金属用(DC)スパッタチャンバ、酸化物用(RF)スパッタチャンバ、酸素加圧アニールチャンバの3つのチャンバで構成。最高基板温...