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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
イナートガスオーブン 東京大学 微細加工 光洋サーモシステム INH-9CD 窒素ガスを導入して、窒素雰囲気でプログラムした通りにベークできる電気炉。600℃まで昇温可能。残留ガス濃度20ppm (...
高速ランプアニール装置 東京大学 微細加工 MS-HP2-9φ3inchまで(条件によってφ4inchまで可能)。大気および窒素雰囲気。昇温速度200℃/minまで、到達温度1000℃まで可能。...