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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
位相変調型分光エリプソメーター 大阪大学 分子・物質合成 株式会社堀場製作所UVISEL LT NIR-NNG 波長域:260nm~2100nm 照射領域:2mm×6mm ...
接触式膜厚測定器 大阪大学 分子・物質合成 BRUKERDektak XT-A 垂直測定レンジ:1 mm 膜厚測定再現性(1σ):5Å 走査距離上限:55mm 触針圧:1mg~15mg ...