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7件中、1件目~7件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
高速分光エリプソメータ 物質・材料研究機構 蓄電池基盤 J.A. WooLLAM社製 M-2000X光が試料と相互作用することによって起こる偏光の変化を解析することで膜厚や物質の光学定数を測定する装置。回転補償子型...
分光エリプソメータ 産業技術総合研究所 微細加工 この分光エリプソメーター装置は、190~826nm(1.5~6.5eV)の波長範囲における入射光と反射光の偏光状態の変化を測定し、解析作業を行うことで、薄...
エリプソメータ 北海道大学 微細加工 日本分光社製  M-500S(Xe光源    測定波長:350~800nm    試料水平置き)...
分光エリプソメーター 京都大学 微細加工 大塚電子(株)社製 FE-5000測定膜厚範囲 0.1nm~1μm 測定波長範囲 250nm~2000nm サンプルサイズ 200mmx 200mm以上 測定項目・...
エリプソメーター 豊田工業大学 微細加工 ガ-トナ-LSE・シリコン酸化膜あるいはSiN膜等の単層あるいは2層膜の膜厚測定・φ6インチ以下基板...
表面物性測定装置群 千歳科学技術大学 分子・物質合成 1. 非接触光学式薄膜計測システム    Scientific Computing International 社製 Film Tek4000    膜厚測定範囲: 3...
位相変調型分光エリプソメーター 大阪大学 分子・物質合成 株式会社堀場製作所UVISEL LT NIR-NNG 【特徴】紫外~近赤外域まで測定可能な高精度分光エリプソメーターです。高周波(50kHz)にて偏光変化を...