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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
パルスレーザーMBE装置(PLD) 大阪大学 分子・物質合成 誠南工業株式会社PLO-020R ArF レーザー:193nm(標準出力100mJ) 試料加熱:~850℃ 酸素分圧:1.0E-6Pa~5Pa 試料サイズ:max 1cm ...
有機蒸着装置 大阪大学 分子・物質合成 誠南工業株式会社VCH-020R 2Ch K-cell 試料サイズ:max 1cm ...
ICP-RFスパッタ装置 大阪大学 分子・物質合成 株式会社アルバックMB02-5002 試料サイズ:max 2inch 基板加熱温度:800℃ ガス種:Ar,O2 ターゲットはAu,Pt,Al2O3のうちから1つ装着 ...
RFスパッタ装置 大阪大学 分子・物質合成 サンユー電子株式会社SVC-700LRF 試料サイズ:max 2inch 加熱温度:RT~300℃ ガス種:Ar,O2,N2 ...