NanotechJapan YellowPages
ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。
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文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ！ 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます．
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1178件中、301件目～320件目を表示しています。
[1] « 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 | 21 » [59]| 写真 | 設備名称 | 設置機関 | 研究分野 | 仕様 |
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電界放出形走査電子顕微鏡 [S4500_FE-SEM] | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | 細く絞った電子線による試料表面の走査によって対象物から放出される二次電子信号を検出することで、表面の凹凸や材質の違いなどを像として表... |
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高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | 本装置は細く絞った電子ビームをレジストを塗布した基板に照射し、微細な加工（描画）を行うための装置です。加速電圧が130kVであるため非常に微... |
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解析用PC (CAD及び近接効果補正用) | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | CAD及び近接効果補正に使用可能な解析用コンピューターです。 電子ビーム描画用ソフトウェアであるドイツGenISys社のBeamerがインストールされてい... |
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イオンコーター(FIB付帯) | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | 日立ハイテクノロジーズ社製 集束イオンビーム加工観察において、熱伝導性のない試料の昇華や融解による形状変形 及び熱改質の防止、試料の表... |
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マニュアルウェハープローバー(2F) | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | φ200 mmチャックテーブルを持つマニュアルプローバ(MJC_708fT-011)とKEITHLEY-4200SCS+HP4284Aを組み合わせたマニュアルプローバシステムです。2F一般実験室... |
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RF・DCスパッタ堆積装置(芝浦) | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | 直流または高周波励起によりArプラズマを発生させ、ターゲット材へ衝突させることにより、基板へ均質緻密な膜をスパッタします。カソードは3つ... |
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単波長エリプソメータ | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | 主に薄膜の膜厚や光学定数の測定に利用する装置です。サンプル表面に光を入射させ、その反射光の偏光状態を計測することにより膜厚や光学定数... |
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高圧ジェットリフトオフ装置 | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | 加温したN-メチル-2-ピロリドン溶液（NMP）による膨潤工程、常温NMPによる高圧ジェット剥離工程、2-プロパノール溶液（IPA）および純水によるリンス... |
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自動塗布現像装置 | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | ウェハサイズ：２inch、４inch オートローダー仕様プログラム：コーターレシピ28種類 デベロップレシピ46種類レジスト：i線用2系統（住友化学PFI-38... |
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原子層堆積装置〔AD-100LP〕 | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | 放電形式に誘導結合(Inductively Coupled Plasma:ICP)方式を採用した原子層堆積装置です。本装置は、リモートプラズマもしくはダイレクトプラズマの選択が... |
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ECRスパッタ成膜・ミリング装置 | 産業技術総合研究所 | 微細加工 | ECRイオンソースで発生させたArイオンビームで、スパッタ成膜とイオンエッチングを行うことを目的とした装置です。同一試料に対して成膜とエッチ... |
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デバイスシミュレータ | 筑波大学 | 微細加工 | ATHENAおよびATLAS（フルパッケージ）/SILVACO社・ 2次元プロセスシミュレーター・ 2次元シリコン・デバイスシミュレーター・ 2次元先端材料... |
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スパッタリング装置 | 筑波大学 | 微細加工 | CFS-4EP-LL（i-miller）/芝浦メカトロニクス社・ スパッタ方式：マグネトロン・サイドスパッタ RF500W （DC）・ スパッタ源：3インチ&tim... |
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レーザー描画装置 | 筑波大学 | 微細加工 | DWL66/Heidelberg instruments社・ 最小描画サイズ：1 µm・ 光源：He-Cdレーザー （波長 442 nm）・ 最大基板サイズ：200 mm&n... |
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FIB-SEM | 筑波大学 | 微細加工 | Helios NanoLab 600i/FEI社・加速電圧：1-30 kV（電子ビーム） 0.5-30 kV（イオンビーム）・デポジション用ガス：C, Ptガス... |
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電子線蒸着装置 | 筑波大学 | 微細加工 | EB-350T/エイコー社・ 到達圧力：1.0×10-6 Pa以下・ 蒸発源：5 kW 5連EBガン・ ルツボ容量：5 cc・ 基板ホルダー：φ3イ... |
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電子線描画装置 | 筑波大学 | 微細加工 | ELS-7500EX/ELIONIX社・ 電子銃エミッター：ZrO/W熱電界放射型・ 加速電圧：5～50 kＶ・ 最小線幅：10 nm・ 試料サイズ：最大4インチ・... |
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走査型プローブ顕微鏡群 | 筑波大学 | 微細加工 | Multimode8/Bruker社・ 高分解能, 小型試料対応・ 最大試料サイズ：15 mm diameter x 5 mm thickDimension Icon/Bruker社・ 高分... |
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ウェーハーダイシングマシーン | 筑波大学 | 微細加工 | DAD322/DISCO社ワークサイズ；φ6"切削可能範囲；160mm送り速度範囲；0.1～500mm/s... |
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電界放出形走査型電子顕微鏡 | 筑波大学 | 微細加工 | SU-8020/日立ハイテク社二次電子分解能；1.0nm（加速電圧15kV,WD=4mm） 1.3nm（照射電圧1kV,WD=1.5mm）照射電圧；0.1～30kV低倍率モード；20～2,000倍（写真倍... |
