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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
パターン投影リソグラフィシステム 筑波大学 微細加工 μPG501/Heidelberg instruments社 描画エリア;125×125mm2 最小描画サイズ;1.0μm 最小アドレッシンググリッド;50nm@1μm 描画スピード;50mm2/min@...
インクジェットパターン生成装置 筑波大学 微細加工 STO50-TBD01/SIJテクノロジー社 最小吐出量;0.1fl 最小ライン;0.6μm 分解能;0.1μm 位置精度;±0.2μm ...
半導体特性評価システム 筑波大学 微細加工 Agilent社製B1500A 半導体デバイス・アナライザは、IV測定、CV測定、高速パルスドIV測定に対応。IV測定範囲;0.1fA~1A/0.5μV~200V  タイムサンプリン...
触針式表面形状測定器 筑波大学 微細加工 ULVAC社製 Dektak 3ST 測定段差幅;10~131nm 測定分解能;0.1nm/6.5μm,1nm/65.5μm,2nm/131μm 測定長;50μm~50mm 観察倍率;35倍、200倍 サンプルサイズ;...
微細パターン形成装置群(スピンコーター、マスクアライナー) 筑波大学 微細加工 Neutronix-Quintel社製Q 2001CT(2.5インチマスク用コンタクトアライナー)           マスク-ウエハ間隔;0-180μm 基板;1cm角~4インチφ...
反応性イオンエッチング装置 筑波大学 微細加工 サムコ社製RIE-10NR(各種シリコン薄膜用Reactive Ion Etching装置) 8インチウエハ対応 高周波出力;300W 発振周波数;13.56MHz ガス;CF4、CHF3、O2 ...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 1.イオン注入装置【ULVAC:IMX-3500】B(ボロン),P(リン),Ar(アルゴン)のイオン注入加速電圧:30~200kVドーズ量:1E12~1E16/cm2対応試料:~4”&Ph...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 2.酸化炉【リネア:LD-410V】ドライ酸化,アンモニア酸化によるSi基板の熱酸化昇温可能範囲:~1100℃対応試料:2”Φ×104”Φ×10...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 3.拡散炉【リネア:LD-410V】アニール,シンタリング等熱処理昇温可能範囲:~1100℃対応試料:2”Φ×104”Φ×10...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 7.スパッタ装置【キャノンアネルバ:EB1100】Al系薄膜のスパッタリング(Ar)RF出力範囲:~800W昇温可能範囲:~300℃電極間距離:100~150mm対応試料:...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 6.リアクティブイオンエッチャー【samco:RIE-10NR】Si系薄膜の反応性イオンエッチング,レジストのアッシング等RF出力:~300W対応試料:2”Φ&time...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 4.プラズマCVD【samco:PD-220】Si系薄膜の堆積基板加熱:~350℃RF出力:~300W対応試料:2”Φ×7    3”Φ×44”Φ×...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 5.減圧CVD【samco:LPD-1200】ポリシリコン堆積昇温可能範囲:~1100℃対応試料:2”Φ×20    4”Φ×25...
ケミカルプロセス装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 11.超純水製造装置【メルクミリポア:Milli-Q Integral 10】超純水の供給(能力:1.2L/分)抵抗率:18.3MΩ・cmTOC:0~5ppb...
リソグラフィ装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 15.スピンコーター【ミカサ:MS-A150】フォトレジスト等の回転塗布対応試料:~4”Φバキュームチャック方式100ステップまでのプログラム機能...
リソグラフィ装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 14.コータ/ディベロッパ【リソテック:CB-50】フォトレジスト塗布,現像近接式クーリングプレート×2近接式ホットプレート×2レジストコート...
リソグラフィ装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 17.マスクアライナ【ミカサ:MA-10】紫外線によるパターン転写露光:コンタクト式露光対応試料:~4”φ対応マスク乾板:2.5”□,5”□...
リソグラフィ装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 16.ステッパ【Ultratech:1500MVS】紫外線によるパターン転写露光:投影式ステップリピート対応試料:2“Φ対応レチクル:5インチ□線幅:0.8μm~...
リソグラフィ装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 19.膜厚測定器【SCREENセミコンダクターソリューションズ:VM-1020】光干渉縞測定による膜厚計測対応試料:2”Φ~8”Φ二層膜測定対応測定...
組立測定装置群 北九州産業学術推進機構 微細加工 23.走査型電子顕微鏡【日立ハイテクノロジーズ:S-3400N+EDX】反射電子,二次電子検出による試料外観,断面の観察対応試料:~8”Φ倍率:x5~x...

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