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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
ダイシングマシン 香川大学 微細加工 DISCO社製ダイシングマシン    DAD3220 切削方法:ダイヤモンドブレードを用いた切削 切削可能範囲:Φ6インチ、厚さ1mm程度まで対応可...
電子測定器 香川大学 微細加工 カール・ズース社製ウェハプローバ    PM5    対応基板サイズ:直径1インチ~150mm    X・Y移動範囲(粗動)...
マスクレス露光装置 香川大学 微細加工 大日本科研社製  マスクレス露光装置  MX-1204  DMDによるパターン生成露光、  露光サイズ150mm角、  最小描画画素1u...
デュアルイオンビ-ムスパッタ装置 香川大学 微細加工 ハシノッテク社製デュアルイオンビ-ムスパッタ装置 10W-IBS 熱陰極型イオン源:2基(50~1000eV) 基板加熱温度:最大700゜C 【ビームガン1:エッチ...
走査電子顕微鏡(EDS付き) 香川大学 微細加工 JEOL社製走査電子顕微鏡(EDS付き)    JSM-6060-EDS    加速電圧:30kV、EDS元素分析JEOL社製イオンコータ    JFC-1...
白色干渉式非接触三次元形状測定器 香川大学 微細加工 ブルカー・エイエックスエス社製    白色干渉式三次元形状測定器    NT91001A-in motion    in-situ駆動観察...
レーザー式非接触三次元形状測定器 香川大学 微細加工 三鷹光器社製    レーザー式三次元形状計測器    NH-3N    測定分解能:XYZ=0.1×0.1×0.01μm...
デジタルマイクロスコープ 香川大学 微細加工 ハイロックス社製    高倍率デジタルマイクロスコープ    KH-7700...
膜厚測定器 香川大学 微細加工 溝尻光学社製エリプソメータ    DHA-XA/M8    膜厚と屈折率を測定可能    処理物:~12インチウェハ  ...
超高精度電子ビーム描画装置 北海道大学 微細加工 エリオニクス社製:ELS-F125    加速電圧:125kV    試料サイズ:最大6インチ...
超高精度電子ビーム描画装置 北海道大学 微細加工 エリオニクス社製:ELS-7000HM    加速電圧:100kV    試料サイズ:最大6インチ...
マスクアライナ 北海道大学 微細加工 ミカサ社製:MA-20    コンタクト露光    試料サイズ:最大4インチ    マスクサイズ:最大5インチ...
レーザー直接描画装置 北海道大学 微細加工 ネオアーク社製:DDB-201    光源:375nm半導体レーザー    描画エリア:最大50mm    試料サイズ:最大6インチ...
真空蒸着装置 北海道大学 微細加工 サンバック社製:ED-1500R    蒸着源:抵抗加熱3元、EB3元    基板加熱可...
プラズマCVD装置 北海道大学 微細加工 サムコ社製:PD-220ESN    試料種類:SiO2、SiN    試料サイズ:最大4インチ...
液体ソースプラズマCVD装置 北海道大学 微細加工 サムコ社製:PD-10C1    試料種類:SiO2他(ソースについては応相談)    キャリアガス:N2,He,Ar,H2    試料サ...
ヘリコンスパッタリング装置 北海道大学 微細加工 アルバック社製:MPS-4000C1/HC1    試料種類:3元、Au,Ag,Cr,Ti,SiO2他    試料サイズ:最大4インチ...
イオンビームスパッタ装置 北海道大学 微細加工 アルバック社製:IBS-6000    試料種類:4元、Ni,Cr,SiO2、W-Si他    試料サイズ:最大3インチ...
原子層堆積装置 北海道大学 微細加工 ピコサン社製:SUNALE-R    試料種類:SiO2、TiO2、Al2O3、Nb2O5、HfO、ZnO他    試料サイズ:最大6インチ  酸化剤としてオゾン...
ICPドライエッチング装置 北海道大学 微細加工 住友精密社製:SPM-200    使用ガス:SF6、C4F8、CF4、Ar、O2    試料サイズ:最大4インチ  ボッシュプロセスによるSi深掘り...

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