文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます.

研究分野から探す

プラットフォームから探す

研究機関から探す

関連リンク

このサイトについて

検索条件

大分類 
中分類 
事業
地域
研究機関
キーワード

検索結果一覧

1178件中、441件目~460件目を表示しています。

[1]      «      18   |   19   |   20   |   21   |   22   |   23   |   24   |   25   |   26   |   27   |   28      »      [59]

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
リアクティブイオンエッチング装置 東京工業大学 微細加工 サムコ製ICP-400iP(ダイヤモンド、Siエッチング用)ダイヤモンド、Si、SiO2などがエッチング可能。ダイヤモンドやシリコン、SiO2などを高密度プラズ...
マイクロ波プラズマCVD装置 東京工業大学 微細加工 最大6 kWのマイクロ波パワーでダイヤモンド薄膜を合成できます。50 mmΦのサンプルホルダーを有しています。窒素を添加することで、現在注目され...
クライオ共焦点顕微鏡 東京工業大学 微細加工 プラットフォーム温度 3.4~350 K(試料温度は3.4 Kよりも上昇)のクライオスタットを備えています。アバランシェフォトダイオードと高感度分光器に...
高速高精度電子ビーム描画装置 京都大学 微細加工 (株)エリオニクス社製  ELS-F125HS 加速電圧125kV,100kV,75kV,50kV,25kV 最少電子ビーム径 1.7nm(於125kV)  描画最小線幅 5nm(於125kV)&nb...
露光装置(ステッパー) 京都大学 微細加工 (株)ニコン社製  NSR-2205i11D 露光光源 i線(365nm)  露光パワー/照明均一性  700mW以上/±1%以内 解像度 0.35μm以下 ...
レーザー直接描画装置 京都大学 微細加工 (株)日本レーザー社製   DWL2000 最大基板サイズ 200×200m㎡  最小描画サイズ 0.6μm  グレースケール露光対応 描画...
高速マスクレス露光装置 京都大学 微細加工 (株)ナノシステムソリューションズ社製  D-light DL-1000GS/KCH 光源:LED  最小画素:1μm 基板サイズ  Φ100, 125, 150,&nbs...
両面マスクアライナー 京都大学 微細加工 ズース・マイクロテック社製 MA6 BSA SPEC-KU/3 ウェハサイズサイズ 2インチ~150mm   基板サイズ 不定形小片~150mm角  ア...
紫外線露光装置 京都大学 微細加工 ミカサ(株)社製 MA-10型Φ4インチまでの不定形試料に対応 実験用マスクアライナ露光光源 UVランプ250W マスクサイズ MAX 5イン...
超微細インクジェット描画装置 京都大学 微細加工 (株)SIJテクノロジ社製  ST050 最小ライン幅 0.6マイクロメートル 対応粘度範囲 0.5~10,000cps(非加熱) 吐出液滴    導電...
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 京都大学 微細加工 ズース・マイロテック社製  DELTA80T3/VP SPEC-KU 基板サイズ Φ6"、Φ4"ウエハ、小片基板 レジストディスペンス    タンク...
レジスト塗布装置 京都大学 微細加工 (株)カナメックス社製  KRC-150CBU 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm  レジスト塗布ライン  2系統 レジスト粘度 ...
スプレーコータ 京都大学 微細加工 ウシオ電機(株)社製  USC-2000STマイクロマシン/MEMS用スプレーコーター 基板サイズ Φ4~6"(塗布領域  □4")  キャリアガ...
レジスト現像装置 京都大学 微細加工 (株)カナメックス社製  KD-150CBUアルカリ現像,リンス,スピン乾燥機能 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm  現像液ライン&nbs...
ウエハスピン洗浄装置 京都大学 微細加工 (株)カナメックス社製 KSC-150CBUケミカル洗浄、純水洗浄、スピン乾燥 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm 2流体(純水+N2)ノズ...
有機現像液型レジスト現像装置 京都大学 微細加工 (株)カナメックス社製 KD(EB)-150CBU 基板サイズ Φ4/Φ6"  □30mm/□40mm  有機系現像、IPAリンス、スピン乾燥機能 現像液吐...
ICP質量分析装置 京都大学 微細加工 アジレント・テクノロジー(株)社製 Agilent7700s ICP-MSシステム他感度(Mcps/ppm) Li (7) : 50  Y (89) : 160 ...
多元スパッタ装置(仕様A) 京都大学 微細加工 キャノンアネルバ(株)社製 EB1100 カソード 非磁性体Φ4"PMC x 4基   基板トレイ Φ4"Siウエハ x 3枚用 Φ6"...
多元スパッタ装置(仕様B) 京都大学 微細加工 キャノンアネルバ(株)社製 EB1100 カソード 非磁性体Φ4"PMC x3基   基板トレイ Φ4"Siウエハ x 3枚用 Φ6"Siウ...
電子線蒸着装置 京都大学 微細加工 キャノンアネルバ(株)社製 EB1200 基板サイズ Φ6"ウエハ x 3枚  蒸発源 10kW 4連E型電子銃(22ml x 4) 基板加...

[1]      «      18   |   19   |   20   |   21   |   22   |   23   |   24   |   25   |   26   |   27   |   28      »      [59]