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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
3元マグネトロンスパッタ装置 名古屋大学 微細加工 島津製作所HSR-5224インチカソード3本,RF電源500 W 2台逆スパッタ機構,基盤回転,シャッター開閉機構による多層膜成長可能...
露光プロセス装置一式 名古屋大学 微細加工 ユニオン光学社製  PEM800両面露光が可能対応基板サイズ:最大4インチ最小パターン:3.0μm...
レーザー描画装置 名古屋大学 微細加工 Heidelberg Instruments社製  DWL66FS最小描画サイズ:0.6μm最大描画サイズ:200mmX200mm直描およびガラスマスク作製...
電子ビーム蒸着装置 名古屋大学 微細加工 アルバック社製  EBX-10D最大投入電力:5kWるつぼ数4、ハースライナー使用...
スパッタ絶縁膜作製装置 名古屋大学 微細加工 MESアフティ社製  AFTEX-3420 対応基板サイズ:最大3インチ 酸化膜、窒化膜用 ...
ICPエッチング装置 名古屋大学 微細加工 アルバック社製  CE-300I 化合物エッチング 対応基板サイズ:最大6インチ基板 プロセスガス:Cl2 ...
RIEエッチング装置 名古屋大学 微細加工 サムコ社製  RIE-10NR シリコン系エッチング 対応基板サイズ:最大8インチ プロセスガス:CF4,Ar,O2 ...
走査型電子顕微鏡 名古屋大学 微細加工 日立ハイテクフィールディング社製S5200 加速電圧:0.5kV~30kV 分解能:0.5nm(30kV) 倍率:~2,000,000 最大試料サイズ:5mmX9.5mm ...
段差計 名古屋大学 微細加工 アルバック社製  Dektak150触針式垂直分解能:10nm測定距離:50μm~55mm...
超高密度大気圧プラズマ装置 名古屋大学 微細加工 富士機械製造株式会社大気圧プラズマ中のラジカルを用いた材料の表面処理(改質、洗浄)使用ガス:Ar、N2、Ar+O2電源:AC交流電源、9kV, 60 ...
超高密度液中プラズマ装置 名古屋大学 微細加工 NUシステム会社有機溶媒を用いたナノグラフェン合成液体分析、細胞改質が可能電源9kV、60Hz液体:アルコール類  500mLプロセスガスAr &nb...
In-situ 電子スピン共鳴 (ESR) 名古屋大学 微細加工 Bruker社製 EMX Premium X試料中に存在する不対電子のリアルタイム計測、温度可変不可(室温)、気体分析可能サンプルサイズ: 5 mm&nb...
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 名古屋大学 微細加工 基板温度、ラジカル、マルチ分光器、FTIRを用いてエッチングの際に生成する温度、ラジカル密度、励起種、表面分析をIn-situで行う。 プロセスガ...
磁気特性評価システム群 名古屋大学 微細加工 交番磁界勾配型磁力計:感度10^-8emu,20kOe振動試料型磁力計:感度10^-5emu,15kOeトルク磁力計:2×10^-3erg,15kOe磁気光学スペクトロメータ:2×10^-...
レーザ描画装置一式 名古屋大学 微細加工 Heidelberg製  mPG101-UV 対応基板:100 ×100 mm 加工精度:1 µm 対応データ:DXF,CIF,BMP ...
スパッタリング装置一式 名古屋大学 微細加工 キャノンアネルバ製  E-200S ターゲット:SiO2,Cr,Au 膜厚分布:Φ100 mm内±3% 基板ホルダー:Φ200 mm 基板加熱:Max 300℃...
3次元レーザ・リソグラフィシステム一式 名古屋大学 微細加工 Nanoscribe製  フォトニック・プロフェッショナル 2次元加工精度:100 nm 3次元加工精度:150 nm 対応データ:DXF, STL KISCO製 &nbs...
ナノインプリント装置一式 名古屋大学 微細加工 SCIVAX製  X-300  BVU-ND 形式:熱式,UV式 最大ワークサイズ:Φ150  mm 最大荷重:50  KN 最高仕様温度:250℃,650℃ UV機...
パリレンコーティング装置一式 名古屋大学 微細加工 KISCO製  DACS-LAB蒸着チャンバー寸法:ID300×H350 mm...
小型微細形状測定機一式 名古屋大学 微細加工 小坂研究所社製 ET200 最大サンプルサイズ:φ160×厚さ48mm 再現性 :1σ 1nm以内 測定範囲 :Z:600μm  X:100mm 分解能 :Z:0.1nm  X:0.1&...

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