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写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
ICPエッチング装置一式 名古屋大学 微細加工 サムコ製  RIE-800 ウェーハサイズ:6 inch ボッシュプロセス対応 加工速度:50 m/min ...
高精度電子線描画装置一式 名古屋大学 微細加工 日本電子(株)製 SPG-724 補償分解能:1.2 nm(30kV) 倍率:×10~×1,000,000 試料室:最大200 mm JSM-7000FKに搭載 ...
フォトリソグラフィ装置 名古屋大学 微細加工 共和理研社製  K310P100S最大2インチ基板、マスク3インチ最小パタンサイズ  2μm...
両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6) 名古屋大学 微細加工 Suss MicroTec AG製  MA-6対応サイズ: Φ2inch - 150 mm,不定形小片:150 mmアライメント精度:±0.5 µm(表面アライン...
電子線露光装置 名古屋大学 微細加工 日本電子社製  JBX6300FS 加速電圧:25/50/100kV 最小ビーム径:2nm ビーム電流:100pA-2nA 重ね合わせ精度:±9nm 最大試料サイズ:8inchφ ...
フェムト秒レーザー加工分析システム 名古屋大学 微細加工 輝創  UFL-Hybrid光源:1041 nm, 550 fs, 10 µJ (IMRA µjewel D-1000)高調波発生ユニット:40% @520 nm, 5%&nbs...
X線光電子分光装置 名古屋大学 微細加工 KRATOS社製  AXIS-HSI線源:Mg/AlデュアルアノードおよびAlモノクロX線源角度分解測定用マニュピレータArスパッタ銃による試料エッチング可能帯...
プラズマCVD装置 名古屋大学 微細加工 サムコ製  PD-240 基板加熱;  抵抗加熱式 (~400℃) 適正ウェハ寸法;  不定形~3インチ径 供給ガス;  TEOS, ...
ダイシングソー装置 名古屋大学 微細加工 サムコ製  DAD522 最大ワークサイズ:Φ152.4 mm 切削可能範囲(XY): 220 mm×160 mm 有効ストローク(Z):27.2  mm ...
プラズマ支援原子層堆積装置 名古屋大学 微細加工 プラズマを用いて原子層での膜堆積を行う。また、製膜中の膜質をその場・in-situ FTIRで評価することが可能基板温度:20℃-600℃使用ガス:SiH4、Ar...
高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置 名古屋大学 微細加工 Cl2あるいはBCl3ベースのプラズマエッチングにおいて、高温でのエッチングプロセスが可能基板温度:200℃-600℃使用ガス:Cl2、Ar、N2、BCl3、O2...
表面解析プラズマビーム装置 名古屋大学 微細加工 プラズマビームを材料表面に照射し、in-situ XPSによって評価することによって、表面-プラズマ間の反応の解析が可能また、イオンおよびラジカル...
in-situプラズマ照射表面分析装置 名古屋大学 微細加工 プラズマ照射した表面を大気暴露すること無く、in-situでX線光電子分光法(XPS)、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)、走査型トンネル顕微鏡(STM...
デジタルマイクロスコープ一式 名古屋大学 微細加工 KEYENCE製 VK-9510 分解能:高さ方向 0.01 um 水平方向 0.14 um 最大観察倍率:3,000倍 測定用光源:波長 408 nm  ...
Deep Si Etcher 名古屋大学 微細加工 住友精密工業製 Multiplex-ASE ウェーハサイズ:6 inchボッシュプロセス対応...
走査型電子顕微鏡 名古屋大学 微細加工 日立ハイテクフィールディング社製S4300 加速電圧:0.5kV~15kV 分解能:15nm(30kV) 倍率:~500,000 最大試料サイズ:直径100mm  ...
X線光電子分光装置 名古屋大学 微細加工 VG/ESCALab250Mg/AlツインアノードAlモノクロX線源Arスパッタ銃角度分解測定用マニュピレータ最大試料サイズ:20mmφ...
マルチマテリアル3Dプリンタ 名古屋大学 微細加工 RICOH社製 ProJet5500X 造形範囲:533 mm x 381 mm x 300 mm 解像度:HD:375 x 375 x 790 DPI(積層ピッチ32 µm)     UHD:750 x 750 x 890 DPI(積層ピッチ29 &mic...
ラジカル注入型プラズマCVD装置 名古屋大学 微細加工 ラジカル注入によるラジカル制御プラズマCVDであり,種々のカーボン材料の薄膜堆積が可能。 プロセスガス:CH4,C2F6,CF4,H2,Ar,O2,N2...
マスクレス露光装置 名古屋大学 微細加工 ナノシステムソリューションズ製 DL-1000 最大露光面積:200 mm x 200 mm 最小画素:1 µm(高精細露光機能付) つなぎ合わせ精度:0.1 µm 重ね...

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