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ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。
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文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ！ 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます．
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1177件中、1161件目～1177件目を表示しています。
[1] « 49 | 50 | 51 | 52 | 53 | 54 | 55 | 56 | 57 | 58 | 59| 写真 | 設備名称 | 設置機関 | 研究分野 | 仕様 |
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SIMS付カウフマン型イオンミリング装置 | 大阪大学 | 分子・物質合成 | 伯東株式会社IBE-KDC75-EDP-OU-TA 【特徴】カウフマン型イオン銃を搭載した低損失、低エネルギー、大電流のドライエッチングが可能なミリング装置で... |
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接触式膜厚測定器 | 大阪大学 | 分子・物質合成 | BRUKERDektak XT-A 【特徴】10nm以下の段差を測定できる触針式の膜厚測定器です。3D機能を備えたプロファイリングシステムを搭載しており、3Dマッピ... |
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イオン化エネルギー測定装置 | 大阪大学 | 分子・物質合成 | 分光計器株式会社BIP-KV202GD 【特徴】大気・窒素・真空の雰囲気下で測定が可能なイオン化エネルギー測定装置です。有機半導体や金属薄膜のイオン... |
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レーザーラマン顕微鏡 | 大阪大学 | 分子・物質合成 | ナノフォトン株式会社 RAMANtouch VIS-NIR 【特徴】試料の分子構造や結晶性の評価が可能な高精度レーザーラマン顕微鏡です。【仕様】試料サイズ：... |
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レーザー照射励起電流測定装置 | 大阪大学 | 分子・物質合成 | 分光計器株式会社BIP-KV302K 【特徴】レーザー光を試料にスキャニング照射し、電流密度を評価する装置です。太陽電池や光電変換素子の光電流マッ... |
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走査型電子顕微鏡 | 大阪大学 | 分子・物質合成 | 本体部株式会社日立ハイテクSU9000 EDX部アメテック株式会社TEAN 【特徴】インレンズ型の高性能SEMで、EDX付、STEM測定が可能な装置です。【仕様】試... |
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ダブル球面収差補正付透過型電子顕微鏡（Cs-corrected TEM） | 信州大学 | 分子・物質合成 | 日本電子製 JEM-2100Ｆ 球面収差補正装置： EM-Z07167T 2段つき 加速電圧：80kV(カーボンに特化した低加速電圧で運転中) 分析機能... |
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環境制御型透過電子顕微鏡（E-TEM) | 信州大学 | 分子・物質合成 | 日本電子製 ＪＥＭ-2100 加速電圧：～200kV 雰囲気ガス圧： ～90ｋＰａまで 温度：～1000℃まで ... |
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走査型透過電子顕微鏡（STEM） | 信州大学 | 分子・物質合成 | 日立製 HD-2300A 加速電圧：200 kV 倍率：低倍率モード100～1,000倍 高倍率モード：1,500～10,000,000倍 観察機能：明視野STEM，暗視野STEM&nbs... |
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トリプルラマン分光装置 | 信州大学 | 分子・物質合成 | 堀場製作所製 T6400MW/Vis-NIR 分光器： トリプルモノクロメータ 焦点距離：640mm レーザ：Ar，He-Ne，YAG，Ti-サファイア 加熱：～1500℃... |
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光電子分光装置(ESCA) | 信州大学 | 分子・物質合成 | 日本電子株式会社（JEOL Ltd.）製 QuanteraⅡ 性能：最小ビーム径 7.5μm 以下検出器 32 チャンネルX線スキャン範囲 最大1.4mm ×1.4mm (連続可変)イ... |
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電界放出型走査電子顕微鏡（FE-SEM） | 信州大学 | 分子・物質合成 | 日立製 SU8000加速電圧：0.5 ～ 30 kV倍率： 低倍率モード20 ～ 2,000倍 高倍率モード100 ～ 800,000倍分析機能：EDX付... |
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動的破壊実験装置 | 信州大学 | 分子・物質合成 | 島津製作所製 ハイドロショットHITS-T10衝撃試験力： 10kN最大速度： 20m/s... |
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ナノカーボン作製装置群 | 信州大学 | 分子・物質合成 | 触媒CVD装置プラズマ表面処理装置ナノファイバー合成装置... |
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ナノコンポジット作製装置群 | 信州大学 | 分子・物質合成 | 2軸押出混練装置 （1） スクリュー直径 : 15mm （2） 軸長/軸径比（L/D）: 60 （3） 最大溶融温度: ... |
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精密触媒制御ナノカーボン合成・分析装置 | 信州大学 | 分子・物質合成 | ULVAC製触媒層形成室（MBE室）：到達圧力5×10-8Pa 分子線蒸発源は1250℃４セルを装備 （現在導入中分子源Fe,Ni,Cu）、液体窒素シュラ... |
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超高性能ダイヤモンド電極作製・分析装置 | 信州大学 | 分子・物質合成 | 高出力マイクロ波プラズマCVD（コーンズテクノロジー）顕微レーザーラマン分析 比抵抗／ホール測定システム （東陽テクニカ &n... |
