ウエハプロファイラ
最終更新日：2025年5月1日
| 設備ID | KT-334 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
| 設備名称 | ウエハプロファイラ (Optical Wafer Profiler) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | ケーエルエー・テンコール(株) (KLA Corporation) |
| 型番 | Zeta-388 |
| キーワード | 各種基板表面形状測定 膜厚測定/ Film thickness measurement |
| 仕様・特徴 | ナノからミリサイズまでの非接触３次元表面形状測定装置。 ・測定モード：3D形状測定、膜厚測定、欠陥数カウント ・測定原理（3D形状）：焦点移動法、白色干渉法、位相シフト干渉法 ・光源：白色LED、緑色LED（520～535 nm） ・ウエハサイズ： 4インチ、6インチ、8インチ（自動搬送可能） 小片（自動搬送不可） ・対物レンズ倍率 明視野用：2.5x、5x、10x、20x、50x、100x 光干渉用：10x、20x、50x ・Z軸移動レンジ：40mm(モーター)、200μm(ピエゾ) ・その他：スティッチング機能あり |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-334 |
