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- 24AT0128
- ナノインプリントの残渣処理
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0130
- 酸化物半導体デバイスに関する研究
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0131
- Si系半導体デバイスの加工
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0132
- 三次元積層実装に向けたTSV形成プロセスの高度化技術の研究開発
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0135
- ダイヤモンド半導体デバイスの研究開発
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0141
- 窒化物半導体デバイスの研究開発
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0142
- 先端半導体材料の評価
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0143
- フィールドエミッタアレイの研究
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0145
- Investigation of microstructure, composition and passivation performance of silicon nitride, silicon oxide, and titanium nitride thin films
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所
- 24AT0146
- ナノカーボン材料に関する研究
- 2025.6.10
- 産業技術総合研究所