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24AT0224
酸化物を用いた高性能半導体の研究
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0230
ALD法によるSiO2膜またはSiN膜の評価
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0232
原子層堆積技術における原料プリカーサの分解過程の観察
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0234
相変化材料の構造分析
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0236
Nano/Micro機能付加による高性能伝熱面に関する研究
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0237
Silicon wafer dopant activation and silicon wafer dicing
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0240
金属膜局所スマートカット
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0243
強誘電HfO2を用いた接合素子の作製
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0249
単電子源を用いた量子系の時間分解分光測定
2025.6.10
産業技術総合研究所
24AT0252
高精度慣性センサ用MEMSデバイスの開発
2025.6.10
産業技術総合研究所
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