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23NM5066
電子ビームリソグラフィー装置を用いたGaN系材料の微細加工評価
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5067
GaN半導体の低抵抗オーム性電極の作製
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5068
電子顕微鏡用スリットの作製
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5069
金属材料の加工熱処理実験の素材準備
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5072
イオニクス型人工知能デバイスの研究
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5073
ワイドバンドギャップ半導体の微細構造形成・デバイス応用
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5088
金属/絶縁膜界面の研究
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5089
絶縁膜形成技術の研究
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5090
原子層堆積技術の研究
2024.7.25
物質・材料研究機構
23NM5091
GaN絶縁膜の研究
2024.7.25
物質・材料研究機構
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