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表示件数

23IT0025
半導体デバイスの作製及び評価
2024.7.25
東京工業大学
23IT0026
磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製
2024.7.25
東京工業大学
23IT0027
超伝導/スピントロニクス材料接合素子の作製とその近接効果の評価
2024.7.25
東京工業大学
23IT0028
3次元磁気メモリのめっき膜の微細加工
2024.7.25
東京工業大学
23IT0029
メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作
2024.7.25
東京工業大学
23IT0030
磁性コア付きインダクタの試作
2024.7.25
東京工業大学
23IT0031
電子ビーム露光装置を用いたIII-N半導体微細構造の形成
2024.7.25
東京工業大学
23IT0032
単一フォトン源の作製
2024.7.25
東京工業大学
23IT0033
フォトニック・リザバーの作製
2024.7.25
東京工業大学
23IT0034
SEM装置によるナノデバイスの観察
2024.7.25
東京工業大学
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