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- 23IT0025
- 半導体デバイスの作製及び評価
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0026
- 磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0027
- 超伝導/スピントロニクス材料接合素子の作製とその近接効果の評価
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0028
- 3次元磁気メモリのめっき膜の微細加工
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0029
- メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0030
- 磁性コア付きインダクタの試作
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0031
- 電子ビーム露光装置を用いたIII-N半導体微細構造の形成
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0032
- 単一フォトン源の作製
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0033
- フォトニック・リザバーの作製
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0034
- SEM装置によるナノデバイスの観察
- 2024.7.25
- 東京工業大学