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23IT0035
シリコンフォトニクスウェハの光学特性評価
2024.7.25
東京工業大学
23IT0037
小径基板もしくは小片への成膜、加工、測定
2024.7.25
東京工業大学
23IT0038
非対称プラズモニック結晶導波路
2024.7.25
東京工業大学
23IT0040
二硫化カルコゲン半導体薄膜場へのアモルファスシリコンのプラズマ化学気相成長
2024.7.25
東京工業大学
23IT0041
無アルカリガラス基板および合成石英基板へのALD-Al2O3成膜
2024.7.25
東京工業大学
23IT0042
SOI基板上リブ導波路製作
2024.7.25
東京工業大学
23IT0043
 単一PSI分子の光電流特性と金基板上に規則正しく配置されたAuナノロッドによるプラズモン増強と偏光依存性
2024.7.25
東京工業大学
23IT0044
プラズモニック結晶導波路による光スピンソーティング
2024.7.25
東京工業大学
23IT0045
FFI光プローバを用いたシリコンフォトニクスデバイス(パッシブ光素子)面内均一性評価
2024.7.25
東京工業大学
23IT0046
集積化フォトニクスデバイスの研究開発
2024.7.25
東京工業大学
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