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- 23IT0035
- シリコンフォトニクスウェハの光学特性評価
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0037
- 小径基板もしくは小片への成膜、加工、測定
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0038
- 非対称プラズモニック結晶導波路
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0040
- 二硫化カルコゲン半導体薄膜場へのアモルファスシリコンのプラズマ化学気相成長
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0041
- 無アルカリガラス基板および合成石英基板へのALD-Al2O3成膜
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0042
- SOI基板上リブ導波路製作
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0043
- 単一PSI分子の光電流特性と金基板上に規則正しく配置されたAuナノロッドによるプラズモン増強と偏光依存性
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0044
- プラズモニック結晶導波路による光スピンソーティング
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0045
- FFI光プローバを用いたシリコンフォトニクスデバイス(パッシブ光素子)面内均一性評価
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0046
- 集積化フォトニクスデバイスの研究開発
- 2024.7.25
- 東京工業大学