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- 23UT1017
- 電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1018
- パターンNi薄膜の形成
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1019
- モスアイ構造を使ったコードホイール製作のためのプロセス技術の開発
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1020
- 高熱伝導率無機層間絶縁材料・プロセスの開発
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1022
- エレクトロスプレーイオン源の作製
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1024
- Si深掘エッチング用保護膜の開発
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1025
- 高性能圧電薄膜を用いたMEMSデバイスの作製
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1026
- 圧電MEMS技術による音響トランスデューサー
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1028
- 極薄膜成膜実験用石英ガラス基板の前処理検討
- 2024.7.25
- 東京大学
- 23UT1029
- グラフェンナノスケールデバイスの作製と多層グラフェンの光学特性評価
- 2024.7.25
- 東京大学